-
- 161
- 2023/05/26(金) 21:22:58.04
-
>>157
（中略）
林修民氏は、リソグラフィー装置に加えて、フッ酸（半導体のエッチングプロセスに使用される）やフォトレジスト（フォトリソグラフィー装置の露光に使用される）などの重要な半導体材料の分野でも日本企業の市場シェアは80％から90％にも達していると指摘した。
日本は2019年にフォトレジストなど3つの原材料について韓国への輸出規制を発動したが、「EUVがなければ高度な製造プロセスができないし、フォトレジストが販売されなければ、全ての製造プロセスが行えない」と述べた。
日本のフォトレジストメーカー『JSR』のエグゼクティブディレクター、Eric Johnson（エリック・ジョンソン）氏は、『Financial Times』の取材に対し、「極端紫外線（EUV）マイクロシャドウの技術を完璧に実践するのは容易ではなく、中国が正確な化学式を入手したとしても、製造時に高純度を実現できるかどうかを検討しなければならず、正確で再現性の高いものにするのは非常に困難である」と語った。
（中略）
中国は世界最大のフォトレジスト消費市場だが、国内生産率は10％未満で海外依存度が高い。
世界的な半導体の「逆グローバル化」の中で、中国メーカーは、起こりうる供給途絶のリスクに対処するため、半導体用フォトレジストの現地化を加速している。
北京の『清華大学』集積回路学院の魏少?教授は、「中国の半導体産業は増加傾向にあるが、年間300億ドル近くが投資され、そのうち100億ドル以上が日本の機器や材料の購入に費やされている。これは誰もが簡単に無視できる数字ではない」と述べている。
（後略）
⇒参照・引用元：『自由?洲?台』「日本半?体限令?指中国 ??力更甚美国?」
このページを共有する
おすすめワード